[发明专利]清洗设备有效
| 申请号： | 02153824.7 | 申请日： | 2002-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN1504274A | 公开（公告）日： | 2004-06-16 |
| 发明（设计）人： | 李如龙;林健行;林益祥 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B11/04 | 分类号： | B08B11/04;B05B1/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 台湾省新竹科学*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种清洗设备，适于清洗至少一玻璃基板，此清洗设备主要具有一清洗室，并于清洗室内配置多个主动滚轮以及多个平衡用喷嘴。其中，多个主动滚轮依序排列成一直线可供玻璃基板的侧边承靠，而多个平衡用喷嘴适于喷射一流体于玻璃基板的表面，用以平衡此玻璃基板。通过上述结构可达到垂直传送玻璃基板的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 设备 | ||
【主权项】：
1、一种清洗设备，适于清洗至少一玻璃基板，其特征在于：该清洗设备包括：一清洗室，具有至少一输入端及至少一输出端，且该清洗室包括一清洗区域；一第一玻璃转向装置，配置于该清洗室的该输入端处；复数个主动滚轮，配置于该清洗室中，且每一该些主动滚轮上具有一承靠面，该承靠面适于承靠该玻璃基板的侧边；复数个平衡用喷嘴，配置于该些主动滚轮的上方，且对应分布于该些主动滚轮所承靠的该玻璃基板的两侧，该些平衡用喷嘴适于喷射一流体于该玻璃基板的表面，用以平衡该玻璃基板；一清洗装置，配置于该清洗室的该清洗区域中；一第二玻璃转向装置，配置于该清洗室的该输出端处。
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