[发明专利]膜应力平衡镀膜方法无效
| 申请号： | 02152300.2 | 申请日： | 2002-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN1503007A | 公开（公告）日： | 2004-06-09 |
| 发明（设计）人： | 张绍雄;陆中玲 | 申请（专利权）人： | 台达电子工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;C08J7/04 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;陈红 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种镀膜方法，应用于光学组件上，用来维持一光学基板的正面和反面的膜应力平衡。此镀膜方法叙述如下：在该光学基板的正面镀上预定层数或厚度的光学薄膜层，在该光学基板的反面镀上相同或近似预定层数的应力补偿膜层，使得该应力补偿膜层的总厚度趋近于该光学基板的正面所镀上光学薄膜层的总厚度，以维持光学基板正反两面的应力的平衡。 | ||
| 搜索关键词： | 应力 平衡 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
1、一种镀膜方法，应用于光学组件上，维持一光学基板所镀膜层的膜应力平衡，其特征在于：在该光学基板的第一面镀上至少一预定厚度的光学薄膜层；及在该光学基板的第二面镀上至少一应力补偿膜层以补偿该第二面和该第一面间的膜厚度差异。
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