[发明专利]曝光装置、曝光方法以及元件制造方法

摘要

本发明提供一种曝光装置，在分割图案继续曝光之际，能够任意设定在感光基板形成的图案的大小，同时亦能任意设定罩幕上的图案的分割位置。其手段为使用的扫描型曝光装置，备有视野光圈，可设定感光基板P的投影区域(50)的扫描方向的宽度；及遮光板，设定感光基板P上的投影区域(50)的非扫描方向的宽度；以及遮蔽器(30)，能在非扫描方向移动，可设定图案像的接合部且能使接合部累积曝光量向照射区域的周边连续地衰减。

主权项

1、一种曝光装置，具有照明光学系统可用光束照射罩幕，及罩幕台载置罩幕，以及基板台载置曝光该罩幕的图案的感光基板；该曝光装置可对前述光束同步移动罩幕及感光基板进行扫描曝光，并分成数次的扫描曝光，使该罩幕的图案像的一部分重复曝光地在该感光基板继续曝光该图案；其特征为具备：视野光圈，用以设定该感光基板上被照明的图案像的扫描方向的宽度；第一遮光板，可设定该图案像的与扫描方向直交的方向的宽度；第二遮光板，可在与扫描方向直交的方向移动，设定该图案像的重复区域，同对向照射区域的周边，连续衰减重复区域的累积曝光量。