[发明专利]半导体装置无效
| 申请号: | 02144495.1 | 申请日: | 2002-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN1434508A | 公开(公告)日: | 2003-08-06 |
| 发明(设计)人: | 山口澄夫 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号: | H01L23/52 | 分类号: | H01L23/52;H01L21/768 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘宗杰,叶恺东 |
| 地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 在半导体衬底(1)的表面形成杂质区(2),在半导体衬底上设置绝缘层(3),使其覆盖杂质区(2)。在绝缘层(3)的表面上设置成为布线层的沟槽(5)。在绝缘层(3)中,设置连接沟槽(5)与杂质区(2)的连接孔(4)。在连接孔(4)内,埋入用高熔点金属或其化物形成的导电层(6)。在沟槽(5)内形成铜布线(8),使其连接到导电层(6)上。如果依据本发明,则可以得到能够实现良好的布线电路,能够提供高集成的半导体电路那样改进了的半导体装置。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征在于:具备半导体衬底1;在上述半导体衬底1的表面形成的杂质区2;在上述半导体衬底1上设置的绝缘层3,用来覆盖上述杂质区2;在上述绝缘层3的表面设置的作为布线层的沟槽5;在上述绝缘层3中设置的连接上述沟槽5和上述杂质区2的连接孔4;用被埋入上述连接孔4内的高熔点金属和/或其化合物形成的导电层6;在上述沟槽5内形成为对上述导电层6进行电连接的布线层8。
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