[发明专利]模版形成方法无效
| 申请号： | 02143407.7 | 申请日： | 2002-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN1485838A | 公开（公告）日： | 2004-03-31 |
| 发明（设计）人： | 邓国欣;廖浩嘉 | 申请（专利权）人： | 精碟科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 陈肖梅;文琦 |
| 地址： | 台湾省台北*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种模版形成方法，包含下列步骤：于一基版上涂布一第一光阻层；于第一光阻层上涂布一阻绝层；于阻绝层上涂布一第二光阻层；以一光束对第二光阻层进行曝光；以另一光束穿透阻绝层对第一光阻层进行曝光；进行显影；及朝第二光阻层的方向溅镀一金属层，另外，本发明亦提供另一种模版形成方法。 | ||
| 搜索关键词： | 模版 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种模版形成方法，用以形成一模版，其特征在于，该模版形成方法包含下列步骤：于一基版上涂布一第一光阻层；于该第一光阻层上涂布一阻绝层；于该阻绝层上涂布一第二光阻层；以一光束对该第二光阻层进行曝光；以另一光束穿透该阻绝层对该第一光阻层进行曝光；进行显影；及朝该第二光阻层的方向溅镀一金属层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精碟科技股份有限公司，未经精碟科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02143407.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：高密度光盘及其制造方法
- 下一篇：光盘的插入错误判别装置及方法
