[发明专利]发光元件的微共振腔的多层反射膜及其制程无效
申请号: | 02142925.1 | 申请日: | 2002-09-16 |
公开(公告)号: | CN1484349A | 公开(公告)日: | 2004-03-24 |
发明(设计)人: | 吕东奎;王威翔 | 申请(专利权)人: | 铼德科技股份有限公司 |
主分类号: | H01S5/10 | 分类号: | H01S5/10;H01S3/08;H01L33/00 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 楼仙英;陈红 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明是有关一种发光元件的微共振腔的多层反射膜及其制程,其步骤包括:(一)、以涂布或溅镀的方法,在一发光元件的透明基板上添加一种高穿透率的高分子化合物,或是高穿透率的无机薄膜,使之至少构成一界面缓冲层;(二)、然后,以制造镀膜的方法在此界面缓冲层上添加多层具有不同折射率的薄膜,使的构成一发光元件的多层反射膜(multi-layer mirror)。在多层反射膜的表层,可依序建立一透明电极层(transparent conductive layer)、一发光层(luminous layer)及一顶部电极层,借此构成一发光元件或有机发光二极管。 | ||
搜索关键词: | 发光 元件 共振 多层 反射 及其 | ||
【主权项】:
1、一种发光元件的微共振腔的多层反射膜制程,其特征在于至少包括以下步骤:(a)在一发光元件的透明基板上添加一界面缓冲层;及(b)以溅镀的方法在该界面缓冲层上添加多层具有不同折射率的薄膜,使之构成该发光元件的多层反射膜。
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