[发明专利]含杂环高分子负载金属钯配合物及其在Heck反应中的应用无效
| 申请号： | 02139082.7 | 申请日： | 2002-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN1401667A | 公开（公告）日： | 2003-03-12 |
| 发明（设计）人： | 宋毛平;林昆华;吴养洁;侯建军;崔秀灵;张茂林 | 申请（专利权）人： | 郑州大学 |
| 主分类号： | C08F4/80 | 分类号： | C08F4/80;C08F4/02;C08F255/00 |
| 代理公司： | 郑州科维专利代理有限公司 | 代理人： | 张凤姣 |
| 地址： | 450052*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种含杂环高分子负载金属钯配合物及其在Heck反应中的应用，它是由下述原料和步骤制备的(A)通过普通商品聚丙烯腈为骨架、(B)经咪唑啉或噁唑啉接枝或交联、(C)与金属钯盐反应形成高分子负载金属钯配合物(以下简称为本发明的第一种高分子负载金属钯配合物)。本发明在Heck反应的应用中催化效率高、合成原料易得、反应操作简单，且可多次重复使用，又不含膦、无污染、环保型。 | ||
| 搜索关键词： | 含杂环 高分子 负载 金属 配合 及其 heck 反应 中的 应用 | ||
【主权项】：
1.一种高分子负载金属钯配合物，它是(A)具有普通商品聚丙烯腈材料为骨架，经(B)咪唑啉接枝或交联，(C)与金属钯盐形成的高分子负载金属钯配合物。
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