[发明专利]紫外线反射膜及其制备工艺无效
| 申请号： | 02136053.7 | 申请日： | 2002-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN1469138A | 公开（公告）日： | 2004-01-21 |
| 发明（设计）人： | 刘大文 | 申请（专利权）人： | 上海百利恒电器有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;G02B5/08;B32B9/00;G02B1/10;G01J5/00 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 衷诚宣 |
| 地址： | 201108上海市闵*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种紫外线反射膜及其制备工艺，涉及到高温测量用途的滤光器。在一块石英玻璃表面上涂覆5至13层二氧化硅形成的低折射率层和由二氧化钛形成的高折射率层，相互叠而成。二氧化硅低折射率层至少包含5％至10％五氧化二磷和三氧化二硼之一的添加剂，涂层厚度0.2到0.4微米。玻璃浸入四异丙氧基钛乙醇溶液，晾干后在550℃左右空气中烘烤10分钟；继续将上述玻璃浸入已添加磷或硼化合物的四烷氧基硅烷凝聚乙醇溶液，晾干后在550°C左右的空气中烘烤10分钟。按本发明制备工艺得到的滤光器，可以将98％的紫外线反射，并且频繁受热冲击或者在高温条件下，反射膜不会发生剥落现象。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外线 反射 及其 制备 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种紫外线反射膜，在一块石英玻璃或者硼硅酸盐玻璃表面上，涂覆至少有五层以上的反射膜，含SiO2的低折射率层和TaO2的高折射率层，高折射率层也可以是氧化钽或者氧化锆形成，低折射率层反射膜和高折射率层反射膜相互交替重叠在一起，其特征是：所说的二氧化硅低折射率层至少包含磷和硼中之一的添加剂，含SiO2的低折射率层还增添了P2O5，其厚度为0.2至0.4微米。
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