[发明专利]利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法无效
| 申请号： | 02129155.1 | 申请日： | 2002-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN1473954A | 公开（公告）日： | 2004-02-11 |
| 发明（设计）人： | 吴定根;曹川寿;尹东植 | 申请（专利权）人： | 乐金电子(天津)电器有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/00 | 分类号： | C23C16/00;C23C16/50 |
| 代理公司： | 天津才智专利商标代理有限公司 | 代理人： | 庞学欣 |
| 地址： | 30040*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法。其包括向工程间内部注入发泡六甲基二硅氧烷的阶段；向设置在工程间内部的上部电极、下部电极以及材料上施加直流电源的阶段；和剥离附着在上部电极、下部电极表面上碳化物的阶段。本发明的利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法是利用向工程间内部提供发泡六甲基二硅氧烷的方法来剥离附着在上部电极、下部电极表面上的碳化物而无需将电极进行拆卸，这样不仅可节省清洗时间，而且清洗过程比较简单，并且提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 等离子体 高分子 连续 装置 清洗 方法 | ||
【主权项】：
1、一种利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法，其特征在于：所述的利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法包括：向工程间(1)内部注入发泡六甲基二硅氧烷(122)的阶段；向设置在工程间(1)内部的上部电极(2)、下部电极(3)以及材料(4)上施加直流电源的阶段；和剥离附着在上部电极(2)、下部电极(3)表面上碳化物的阶段。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
