[发明专利]感应耦合式等离子体装置无效

专利信息
申请号: 02127324.3 申请日: 2002-07-31
公开(公告)号: CN1426090A 公开(公告)日: 2003-06-25
发明(设计)人: 尤里·N·托尔马加夫;马东俊;文昌郁;尹惠荣 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L21/205 分类号: H01L21/205;H01J37/00;H05H1/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 王景刚,李瑞海
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种感应耦合式等离子体装置,此感应耦合式等离子体装置包括一处理腔室、一顶部等离子体源腔室、一反应器、一感应器、一开孔和一挡板。处理腔室具有一晶片基座,上面装设一基底。顶部等离子体源腔室装设在处理腔室。反应器装设在顶部等离子体源腔室之中;具有一通道,一种气体流经此通道;以及把等离子体各反应产物供给处理腔室。感应器装设在顶部等离子体源腔室与反应器之间并缠绕反应器。开孔设置在其中装设感应器的、反应器周边空间与处理腔室之间。挡板可开启和关闭开孔。因而,可以改进发自一等离子体源的各种自由基的均匀径向分布。
搜索关键词: 感应 耦合 等离子体 装置
【主权项】:
1.一种感应耦合式等离子体装置,包括:一处理腔室,具有一其上装设一基底的晶片基座;一顶部等离子体源腔室,装设在处理腔室上;一装设在顶部等离子体源腔室之中的反应器,具有一气体由之流过的通道,并把等离子体反应产物供给处理腔室;一感应线圈,装设在顶部等离子体源腔室与反应器之间并缠绕于反应器;一开孔,设置在其中装设感应线圈的反应器外围空间与处理腔室之间;以及一开启和关闭所述开孔的挡板。
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