[发明专利]超解析光盘母膜、光盘原膜及其工艺无效
| 申请号： | 02118601.4 | 申请日： | 2002-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN1453779A | 公开（公告）日： | 2003-11-05 |
| 发明（设计）人： | 陈炳茂 | 申请（专利权）人： | 铼德科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26 |
| 代理公司： | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 台湾省新竹县 *** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种超解析光盘母膜，主要由一基板、一超解析结构以及一图案化的光阻层构成。其中，超解析结构配置于基板与图案化光阻层之间。本发明的光盘母膜在制作时先将超解析结构形成于基板上，然后才形成光阻层于超解析结构上。上述工艺不会有使光阻层预先曝光的问题。此外，上述工艺所制作出的光盘母膜不会有薄膜微粒造成表面粗糙的问题，而以光盘母膜所制作的光盘原膜也不会有表面粗糙的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 解析 光盘 及其 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种超解析光盘母膜工艺，其特征为：包括：提供一基板；形成一超解析结构于该基板上；形成一光阻层于该超解析结构上；提供一物镜；提供一曝光光源，该曝光光源透过该物镜而由该基板侧入射以对该光阻层进行曝光，其中该曝光光源经过该超解析结构而照射于该光阻层上，以将复数个记录区域上的该光阻层曝光；以及移除该些记录区域上的该光阻层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于铼德科技股份有限公司，未经铼德科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02118601.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：半导体存储器的改进结构
- 下一篇：医用超声设备声输出测量系统
