[发明专利]金属及合金熔体净化的方法无效
| 申请号： | 02110611.8 | 申请日： | 2002-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN1162555C | 公开（公告）日： | 2004-08-18 |
| 发明（设计）人： | 李金富;倪红军;孙宝德;丁文江;周尧和 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | C22B9/02 | 分类号： | C22B9/02 |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 | 代理人： | 王锡麟 |
| 地址： | 20003*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 金属及合金熔体净化的方法，属于铸造技术领域。本发明在适当增加熔剂层厚度的前提下将过滤器上移至熔剂层中，并在过滤器下方造就一稳定的吸附净化熔剂层，使金属液在经过过滤器过滤的同时，与熔剂充分接触，从而提高过滤效率。本发明采用了两个净化室，通过过滤器上方金属液柱高度来调节金属的液流量，提高金属熔体的净化效果。本发明具有实质性特点和显著进步，使过滤器和熔剂的净化潜能得到充分的发挥，完全除去金属熔体中10μm以上的非金属夹杂，并使10μm以下的非金属夹杂含量低于0.02％，以铝熔体为例，可使铝熔体最终含氢量可降0.08ml/100gAl以下的水平。本发明工艺较简单，成本低廉，无污染。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 合金 净化 方法 | ||
【主权项】：
1、一种金属及合金熔体净化的方法，其特征在于在适当增加熔剂层(3)厚度的前提下将过滤器(1)上移至熔剂层(3)中，并在过滤器(1)下方造就一稳定的吸附净化熔剂层(3)，使金属熔体(4)在经过过滤器(1)过滤的同时，与熔剂充分接触，从而提高过滤效率，采用两个净化室，提高金属熔体的净化效果。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海交通大学，未经上海交通大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02110611.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：金属熔体混合处理装置
- 下一篇：带有陶瓷过滤器铝熔体过滤装置
