[发明专利]流体喷射装置制造方法无效
| 申请号： | 02107795.9 | 申请日： | 2002-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN1447190A | 公开（公告）日： | 2003-10-08 |
| 发明（设计）人： | 李英尧;陈志清 | 申请（专利权）人： | 明基电通股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/16;G03F7/26;B05B1/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陈小雯,肖鹂 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种流体喷射装置制造方法，在设计流体喷射装置结构时，通过蚀刻时掩模的图案设计，使未蚀刻间隔部产生互补几何形状，或对未蚀刻间隔部进行离子注入等方式，以在蚀刻时有效地延长蚀刻时间，使蚀刻后的间隔部接近特定几何形状，且流体腔达到足够的流体腔长度及深度，同时更可进一步避免蚀刻尖角出现的问题，防止于喷射时相邻该流体腔产生相互干扰(crosstalk)的现象，而制造出高精度的流体喷射装置，并提高其性能及品质。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 喷射 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种流体喷射装置制造方法，其中该流体喷射装置用以喷射流体，且具有多个流体腔以及用以分隔该各流体腔的多个间隔部，而该各间隔部具有一特定几何形状，其中该流体喷射装置制造方法包括下列步骤：提供一基材；提供一掩模，具有一互补图案；在该基材上涂覆(coating)一光致抗蚀剂层；将该互补图案转移在该光致抗蚀剂层上，而决定多个未蚀刻间隔部，该各未蚀刻间隔部具有大于该特定几何形状的互补几何形状；以及对该基材进行蚀刻(etching)，使该基材经蚀刻后构成具有该特定几何形状的该各间隔部。
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