[发明专利]自立暗挖结构无效

专利信息
申请号: 02107626.X 申请日: 2002-03-17
公开(公告)号: CN1445436A 公开(公告)日: 2003-10-01
发明(设计)人: 彭高培 申请(专利权)人: 彭高培
主分类号: E21D9/00 分类号: E21D9/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610081 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 本自立暗挖结构是由拱板体系和顶撑体系构成。所述的拱板体系包括有拱板和覆盖地层,顶撑体系包括有支承柱和纵梁。拱板体系由顶撑体系支承。该自立暗挖结构具有结构受力明确,实施简便灵活,不受工程面积和地质特性限制,能确保地表不产生沉降、施工安全可靠以及成本便宜等优点,是目前唯一能适用于不同地层和任意空间的暗挖(特别是浅埋暗挖)顶撑结构,对合理开发利用地下空间有着重大现实意义。
搜索关键词: 自立 结构
【主权项】:
1、一种自立暗挖结构,由拱板体系(2)和顶撑体系(3)构成。其特征在于:所述的拱板体系(2)包括有拱板(4)和覆盖地层(45);顶撑体系(3)包括有纵梁(6)和支承柱(7);顶撑体系(3)顶撑拱板体系(2)。
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