[发明专利]半导体存储器件无效
| 申请号: | 02107184.5 | 申请日: | 2002-03-13 |
| 公开(公告)号: | CN1375874A | 公开(公告)日: | 2002-10-23 |
| 发明(设计)人: | 堀口文男;大泽隆;岩田佳久;山田敬 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
| 主分类号: | H01L27/04 | 分类号: | H01L27/04;H01L27/105;H01L27/108 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王永刚 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 半导体存储器件的各个MIS晶体管具备半导体层(12);在半导体层上形成的源区(15);在半导体层上与上述源区分离开形成的漏区(14),使源区和漏区之间的半导体层变成为浮置状态的沟道体;用来在沟道体上形成沟道的第1栅极(13)用来借助于电容耦合控制沟道体电位的第2栅极(20);和在沟道体的第2栅极一侧形成的高浓度区(21),具有比沟道体的杂质浓度还高的杂质浓度。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体 存储 器件 | ||
【主权项】:
1.一种具有用来构成存储单元(MC)的多个MIS晶体管的半导体存储器件,其特征在于:各MIS晶体管具备:半导体层(12);在上述半导体层上形成的源区(15);在上述半导体层上与上述源区分离开形成的漏区(14),使上述源区和上述漏区之间的上述半导体层变成为浮置状态的沟道体;用来在上述沟道体上形成沟道的第1栅极(13);用来借助于电容耦合控制上述沟道体电位的第2栅极(20);在上述沟道体的上述第2栅极一侧形成的高浓度区(21),具有比上述沟道体的杂质浓度还高的杂质浓度,上述MIS晶体管,动态地存储把上述沟道体设定为第1电位的第1数据状态和把上述沟道体设定为第2电位的第2数据状态。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





