[发明专利]高速研磨金属层用化学机械研磨液组成物无效
| 申请号： | 02105893.8 | 申请日： | 2002-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN1451710A | 公开（公告）日： | 2003-10-29 |
| 发明（设计）人： | 陈彦亨;黎源欣 | 申请（专利权）人： | 台湾永光化学工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汤保平 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明为一种高速研磨金属层用化学机械研磨液组成物，此研磨液至少包含一氧化剂、一金属研磨促进剂、一有机双质子酸及去离子水所组成，该化学机械研磨液组成物可以单独使用或与研磨粉体并用。藉由本发明的研磨液组成物可提升各种金属层高速研磨后金属层表面的平坦度。 | ||
| 搜索关键词： | 高速 研磨 金属 化学 机械 组成 | ||
【主权项】：
1.一种高速研磨金属层用化学机械研磨液组成物，供使用于半导体集成电路制程中以2000埃/分(/min)以上的高速研磨金属层时，可以控制金属层研磨后的平坦度，该组成物包括：一氧化剂、一研磨促进剂、一有机酸以及去离子水；其中该有机酸是为有机双质子酸。
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