[发明专利]形成微影制程的相偏移光罩的方法

摘要

本发明为一种形成微影制程的相偏移光罩的方法，步骤为：提供一片已镀有反相层及不透光铬膜的石英玻璃基板；于所述不透光铬膜之上形成一层第一光阻层；利用电子束微影技术或激光扫描技术定义出反相层图案的位置；进行显影制程，再利用蚀刻技术对所述不透光铬膜进行蚀刻以形成第一铬图案，再将所述第一光阻层去除；对所述反相层进行蚀刻以形成反相层图案；形成第二光阻层；通过一片寄生光罩，运用半导体微影制程所使用的曝光机台进行曝光制程，以定义出第二铬图案的位置，并进行显影制程；以及对所述第一铬图案进行蚀刻，以形成第二铬图案；本发明第二次写入通过一片寄生光罩，利用低成本的曝光机台而取代习知的高成本且低产能的电子束微影技术或激光扫描技术，可大幅降低相偏移光罩的制造成本并增加产能。

主权项

1.一种形成微影制程的相偏移光罩的方法，其特征是：包含下列步骤：提供一片已镀有反相层及不透光铬膜的石英玻璃基板；于所述不透光铬膜之上形成一层第一光阻层；利用电子束微影技术定义出反相层图案的位置；进行显影制程，再利用蚀刻技术对所述不透光铬膜进行蚀刻以形成第一铬图案，再将所述第一光阻层去除；对所述反相层进行蚀刻以形成反相层图案；形成第二光阻层；通过一片寄生光罩，运用半导体微影制程所使用的曝光机台进行曝光制程，以定义出第二铬图案的位置，并进行显影制程；以及对所述第一铬图案进行蚀刻，以形成第二铬图案。