[发明专利]一种非易失性存储单元的编程及擦除方法无效
申请号: | 02105174.7 | 申请日: | 2002-02-25 |
公开(公告)号: | CN1441480A | 公开(公告)日: | 2003-09-10 |
发明(设计)人: | 杨青松;徐清祥 | 申请(专利权)人: | 力旺电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/82 | 分类号: | H01L21/82;H01L21/8239 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 侯宇,陶凤波 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种选择性编程非易失性存储器阵列的各存储单元的方法。该方法首先提供一存储单元阵列,每一存储单元包括一阱、一设于该阱中并被一具有第二导电类型的局部阱区域包围的第一导电类型的漏极、一横向设置于该阱中的第一导电类型的源极、一电荷俘获层、以及一栅极。该方法还包括通过一选定的位线同时施加一第一电压于一选定的存储单元的漏极和局部阱区域上,浮置该选定的存储单元的源极,并施加一第二电压于该选定存储单元的栅极上。 | ||
搜索关键词: | 一种 非易失性 存储 单元 编程 擦除 方法 | ||
【主权项】:
1.一种选择性编程非易失性存储器阵列中的存储单元的方法,包括:提供一存储单元阵列,每个存储单元包括:一阱,该阱具有第一导电类型;一第一导电类型的扩散漏极,设置在该阱中并被一具有第二导电类型的局部阱区域包围;一第一导电类型的扩散源极,横向设置在该阱中;一电荷俘获层,位于该扩散漏极与该扩散源极之间的该局部阱区域和该阱之上;以及一栅极,位于该电荷俘获层之上;通过一选定的位线同时施加一第一电压于一选定的该存储单元的该扩散漏极与该局部阱区域上;浮置该选定的存储单元的该扩散源极;以及施加一第二电压在该选定的存储单元的该栅极上,籍此在该电荷俘获层与该局部阱区域之间诱发福乐尔-诺汉德隧道效应。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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