[发明专利]具有波形槽的化学机械抛光垫有效
| 申请号： | 01823541.7 | 申请日： | 2001-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN1543670A | 公开（公告）日： | 2004-11-03 |
| 发明（设计）人： | 朴仁河;金载晰;黄仁柱;权太庆 | 申请（专利权）人： | 株式会社SKC |
| 主分类号： | H01L21/304 | 分类号： | H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 张民华 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开一种形成在抛光表面上的化学机械抛光垫，它带有多个具有不同半径而相同形状的同心波形槽。各槽具有一要求的深度、宽度和形状。该化学机械抛光垫在抛光过程中提供了有效地控制膏剂流动的效果，从而在抛光过程中达到抛光率上的稳定性，并提高了晶片平面化程度。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 波形 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
1.一种用于化学机械抛光工艺的化学机械抛光垫，其特征在于，各槽具有要求的深度、宽度和形状的多个不同直径的波形同心槽，形成在抛光垫的抛光表面上。
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