[发明专利]将试剂延期注入等离子体的注射器和方法无效

专利信息
申请号: 01820984.X 申请日: 2001-10-12
公开(公告)号: CN1481449A 公开(公告)日: 2004-03-10
发明(设计)人: B·L·-M·杨 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: C23C16/513 分类号: C23C16/513;H01J37/32
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张元忠;孟凡宏
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 提供了用于将流体注入等离子体流的方法和装置,其在长时间使用过程中能均匀分配并且减少堵塞的可能性。一种喷嘴(2),包含用于限制流体流动的第一通道部分(6),其外形使得第一通道部分(2)的内壁平行于第一轴(9)。该喷嘴(2)也包含与第一通道部分(69)流体连通的第二通道部分(8)。第二通道部分(8)包含凹壁部分,使第二通道部分(8)的内壁以预定角度偏离第一轴(9)。第二通道部分(8)减少了使用期间堵塞层在第二通道部分(8)的内壁上的形成。而且,喷嘴(2)还可以包含伸入等离子体的尖端部分(28)。喷嘴(2)可以并入注射器体系或者在注射器体系中可互换,所述注射器体系被设计用于在等离子体沉积装置中操作。
搜索关键词: 试剂 延期 注入 等离子体 注射器 方法
【主权项】:
1.一种用于将流体注入等离子体的注射器体系,其包含:包含喷嘴(2)的基体(4),其包含:限定第一通道部分(6)的第一内壁(3),用于限制流体的流动,并且其外形使得第一通道部分(6)的内壁(3)平行于第一轴(9);和限定与第一通道部分(6)流体连通的第二通道部分(8)的第二内壁,并且其具有凹壁部分,这样第二通道部分的第二内壁以预定角度偏离第一轴(9),第二通道部分(8)减少了使用期间堵塞层(19)在第二通道部分(8)的第二内壁上的形成。
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