[发明专利]确定终点的方法以及半导体圆片无效

专利信息
申请号: 01820407.4 申请日: 2001-11-19
公开(公告)号: CN1479942A 公开(公告)日: 2004-03-03
发明(设计)人: 大卫·哈格特;沃特·格拉斯郝斯尔 申请(专利权)人: 摩托罗拉公司
主分类号: H01L21/3105 分类号: H01L21/3105
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 冯赓宣
地址: 美国伊*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了一种在化学机械抛光半导体圆片(100、200)期间确定终点的方法。该方法包括步骤:在待抛光的第一层(106、206)上,沉积第二层(108、208),第一层(106、206)的物理特性不同于第二层(108、208)的物理特性。此后,利用化学机械抛光抛光圆片(100、200)。因为各层的物理特性不同,所以可以检测物理特性的变化,而且可以根据检测到的变化,确定终点。此外,还公开了一种用于化学机械抛光的半导体圆片。
搜索关键词: 确定 终点 方法 以及 半导体
【主权项】:
1.一种在化学机械抛光半导体圆片期间确定终点的方法,该方法包括步骤:在待抛光的第一层上,沉积第二层,其中第一层的物理特性不同于第二层的物理特性;抛光第二层;在抛光到第一层时,检测第二层的表面的物理特性的变化;以及根据检测到的变化,确定终点。
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