[发明专利]位置探测法和装置、曝光法和设备、控制程序以及器件制造法无效
| 申请号： | 01817611.9 | 申请日： | 2001-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN1469990A | 公开（公告）日： | 2004-01-21 |
| 发明（设计）人： | 中岛伸一 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G01B21/00 | 分类号： | G01B21/00;H01L21/027;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 武玉琴;顾红霞 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 移动多个在观察坐标系上具有预定的彼此位置关系的区域的同时，根据观察单元观察目标的结果，重合度计算单元根据给定的区域间对称性计算多个区域的观察结果部分中至少一对观察结果部分的区域间重合度(步骤151－160)，并且位置信息计算单元通过获得多个区域的位置而获得目标的位置信息，其中在该位置处做为观察坐标系中多个区域的位置的函数的区域间重合度例如取最大值(步骤161)。结果，精确地探测到目标的位置信息。 | ||
| 搜索关键词： | 位置 探测 装置 曝光 设备 控制程序 以及 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种探测目标的位置信息的位置探测法，该方法包括：观察所述目标的观察步骤；区域重合度计算步骤，根据给定的对称性计算多个区域中至少一个区域的部分观察结果的区域重合度，其中多个区域在所述目标的观察坐标系上具有预定的位置关系；和位置信息计算步骤，根据所述区域重合度计算所述目标的位置信息。
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