[发明专利]利用衍射特征的分析对焦点中心的判断无效
| 申请号： | 01817372.1 | 申请日： | 2001-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN1469989A | 公开（公告）日： | 2004-01-21 |
| 发明（设计）人： | 迈克尔·尢金·利陶;克里斯托弗·丁·雷蒙德 | 申请（专利权）人： | 安格盛光电科技公司 |
| 主分类号： | G01B9/00 | 分类号： | G01B9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱进桂 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供通过利用多个衍射光栅(20)进行衍射特征差值分析而在光刻晶片(10)中进行判断的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 衍射 特征 分析 焦点 中心 判断 | ||
【主权项】：
1.一种用于测量有关光刻装置的参数的方法，包括下列步骤：提供一个衬底，衬底上包括多个通过利用光刻装置的光刻法形成的衍射光栅，衍射光栅包括多个间隔元件；通过基于辐射源的工具测量多个衍射光栅中的至少三个的衍射特征；和确定衍射特征之间的差值，从而确定所述光刻装置的所需参数。
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