[发明专利]微刻用光刻胶组合物中的溶解抑制剂无效
| 申请号： | 01817217.2 | 申请日： | 2001-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN1470010A | 公开（公告）日： | 2004-01-21 |
| 发明（设计）人： | L·L·伯格;J·费尔德曼;V·A·佩特洛夫;F·L·沙德特三世;A·F·费林;F·C·小祖姆斯特 | 申请（专利权）人： | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 周慧敏;王其灏 |
| 地址： | 美国特拉华*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻胶组合物，其包含聚合粘结剂；光敏组分；和至少一种溶解抑制剂，所述溶解抑制剂包含含有至少一个具有以下结构－C(Rf)(Rf’)OR的官能团的链烷烃或环烷烃化合物，其中，Rf和Rf’是1－约10个碳原子的相同或不同的氟代烷基，或者在一起成为(CF2)a，其中a是2－约10的整数，R是氢原子或酸不稳定保护性基团。通常，所述溶解抑制剂具有在157纳米波长小于约4.0μm－1的吸光系数。 | ||
| 搜索关键词： | 用光 组合 中的 溶解 抑制剂 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶组合物，其包含：(a)聚合粘结剂；(b)光敏组分；和(c)至少一种溶解抑制剂，其包含含有至少一个具有以下结构的官能团的链烷烃或环烷烃化合物： -C(Rf)(Rf’)OR其中，Rf和Rf’是1-约10个碳原子的相同或不同的氟代烷基，或者在一起成为(CF2)a，其中a是2-约10的整数，R是氢原子或酸不稳定保护性基团。
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