[发明专利]新型含氟共聚物,其在基底的涂层和浸渍方面中的应用以及如此处理过的基底无效
申请号: | 01816974.0 | 申请日: | 2001-07-26 |
公开(公告)号: | CN1468266A | 公开(公告)日: | 2004-01-14 |
发明(设计)人: | D·特姆布恩祖迪;Y·勒格兰德;D·于赫 | 申请(专利权)人: | 阿托菲纳公司 |
主分类号: | C08F220/22 | 分类号: | C08F220/22;C08F220/34;D06M15/277 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 段晓玲;马崇德 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 对于其每100重量份而言,此阳离子型含氟共聚物是由含有如下成分的单体组合物得到的:5~92重量份的至少一种多氟单体(I);0.10~25重量份的至少一种单体(II)、(III)或(IV);0~20重量份的至少一种阴离子单体或者通过改变pH值的潜在型阴离子单体;0~25重量份至少一种乙烯基单体(V):CH2=CHR11;0~60重量份至少一种单体(VI);0~10重量份至少一种在基底上形成所述含氟共聚物的涂层时或之后能够导致该含氟共聚物后交联的单体;以及0~25重量份至少一种单体(VII),其中在上述各式中,R1、R2=H;或者两个当中一个是H,另外一个是C1~C4的烷基;A=通过碳原子与0相连的二价链,并且可以含有一个或几个氧原子和/或硫原子和/或氮原子;Rr=C2~C20的直链或支链的全氟基团;R3、R6、R8和R12=H或-CH3;R4、R5、R7、R9和R10=H、C1~C18烷基、苄基或羟乙基;X1、X2=一价阴离子;R11=羧酸烷基酯、烷基醚或C1~C18烷基;m=0或1;R13=C1~C6的亚烷基,可以具有至少一个卤素取代基;m=0或1~11的整数,包括端值;R14=C1~C32烷基,并可以具有至少一个卤素取代基,或者是可以被至少一个卤素取代的环烷基;R15=H或C1~C4烷基;A2=C1~C4的直链或支链的亚烷基;R16、R17=H、C1~C18的直链或支链的亚烷基或者羟乙基或苄基,或者R16和R17与同它们相连的氮原子一起组成吗啉代、哌啶子基和吡咯烷基。 | ||
搜索关键词: | 新型 共聚物 基底 涂层 浸渍 方面 中的 应用 以及 如此 处理 | ||
【主权项】:
1.一种阳离子型含氟共聚物,其特征在于,对于100重量份该共聚物是由含如下的单体组合物得到的:(A)5~92重量份的至少一种如下通式(I)的多氟化单体:其中:—R1和R2同时表示氢原子或者两个中的一个表示氢原子,另一个表示C1~C4的烷基;—A1表示通过碳原子与O相连的二价链,它可以含有一个或几个氧原子和/或硫原子和/或氮原子;以及—Rf表示具有C2~C20直链或支链的全氟基团;(B)0.10~25重量份的至少一种选自如下通式(II)、(III)和(IV)的单体:其中:—R3表示H或-CH3;—R4和R5相同或不同,各自独立地表示H、C1~C18的烷基、苄基或羟乙基;以及—X1表示一价的阴离子;其中:—R6表示H或-CH3;以及—R7表示H、C1~C18的烷基、苄基或羟乙基;其中:—R8表示H或-CH3;—R9和R10相同或不同,各自独立地表示H、C1~C18的烷基、苄基或羟乙基:以及—X2表示一价的阴离子;(C)0~20重量份的至少一种阴离子单体或者通过改变pH值能的潜在型阴离子单体;(D)0~25重量份的至少一种如下通式(V)的乙烯基单体: CH2=CHR11 (V)其中,R11表示羧酸烷基酯或烷基醚,或者C1~C18的烷基;(E)0~60重量份的至少一种如下通式(VI)的单体:其中:—R12表示H或-CH3;—m是0或1;—R13表示C1~C6的亚烷基残基,可以被至少一个卤素取代;—m是0或者1~11的整数,包括1和11;—R14表示C1~C32的烷基残基,可以被至少一个卤素取代,或者是可以被至少一个卤素取代的环烷基残基;(F)0~10重量份至少一种能够在基底上形成所述含氟共聚物的涂层的过程中或者以后可导致此含氟共聚物发生后交联的单体;以及(G)0~25重量份至少一种如下通式(VII)的单体:其中:—R15表示氢原子或含有1~4个碳原子的烷基;—A2表示含有1-4个碳原子的直链或支链的亚烷基;以及—符号R16和R17相同或不同,各表示氢原子、具有1~18个碳原子的直链或支链的烷基或者羟乙基或苄基,或者R16和R17与和它们相连的氮原子一起形成吗啉代基、哌啶子基或吡咯烷-1-基;
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