[发明专利]电介质薄膜元件及使用它的执行元件、喷墨头和喷墨记录装置无效
| 申请号： | 01816412.9 | 申请日： | 2001-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN1483225A | 公开（公告）日： | 2004-03-17 |
| 发明（设计）人： | 镰田健;鸟井秀雄;高山良一 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | H01L41/08 | 分类号： | H01L41/08 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 胡强;杨松龄 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及控制电介质薄膜的结晶取向性并可以使电气特性等各种特性最佳化的电介质薄膜元件。该电介质薄膜元件(10)具有衬底(11)、形成在该衬底(11)上的第一电极(12)、形成在第一电极(12)上的电介质薄膜(13)、形成在该电介质薄膜(13)上的第二电极(14)并且它是在加热所述衬底(11)的状态下制成的。作为所述衬底(11)的材料，使用有一定热膨胀系数的材料，根据衬底(11)的热膨胀系数来控制该电介质薄膜(13)的结晶取向性。 | ||
| 搜索关键词： | 电介质 薄膜 元件 使用 执行 喷墨 记录 装置 | ||
【主权项】：
1、电介质薄膜元件，它具有衬底、形成在该衬底上的第一电极、形成在第一电极上的电介质薄膜、形成在该电介质薄膜上的第二电极并且它是在加热所述衬底的状态下制成的，其特征在于，作为所述衬底的材料，使用有一定热膨胀系数的材料，根据该衬底的热膨胀系数来控制该电介质薄膜的结晶取向性。
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