[发明专利]玻璃衬底的预多晶硅被覆无效
申请号: | 01815870.6 | 申请日: | 2001-08-27 |
公开(公告)号: | CN1469848A | 公开(公告)日: | 2004-01-21 |
发明(设计)人: | K·S·劳;D·梅丹 | 申请(专利权)人: | 应用材料有限公司 |
主分类号: | C03C17/22 | 分类号: | C03C17/22;C03C17/34 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 蔡胜有 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种用于在预退火玻璃衬底上形成多晶硅层的方法和装置。在一个技术方案中,该方法包含:在沉积室中装载预退火玻璃衬底,在预退火玻璃衬底上沉积非晶硅层,对预退火玻璃衬底进行退火,以便在其上形成多晶硅层。非晶硅层可以在进行退火步骤的同时沉积,以便在预退火玻璃衬底上生成多晶硅层。可以在沉积非晶硅层之前沉积氮化物层和/或氧化物层,并且对预退火玻璃衬底进行退火。 | ||
搜索关键词: | 玻璃 衬底 多晶 被覆 | ||
【主权项】:
1.一种用于加工衬底的方法,包括:(a)在沉积室中装载预退火玻璃衬底;(b)在预退火玻璃衬底上沉积非晶硅层;和(c)对预退火玻璃衬底进行退火,以便在其上形成多晶硅层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料有限公司,未经应用材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/01815870.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。