[发明专利]双层制模白板及其制造工艺

摘要

本发明涉及在半导体和其它器件的制造中用做掩模的构图的制模板的制备。利用制模板上掩模层上的抗蚀剂和转移层介绍了方法和器件。方法和器件制备了掩模和相移掩模中的小特征尺寸。用于掩模介绍的方法在许多情况中适用于在具有类似小特征的其它工件例如半导体、低温、磁性和光学微器件等上直接写入。

主权项

1.一种通过图形发生器在具有制模板基板、掩模层、转移层和抗蚀剂层的掩模白板上产生特征的方法，包括以下步骤：使用图形发生器在抗蚀剂层中产生潜像；产生与所述潜像对应的等离子体刻蚀阻挡层；通过所述等离子体刻蚀阻挡层定向地刻蚀转移层；以及除去所述转移层，露出掩模层的未刻蚀部分。