[发明专利]采用人字形照射来照射光掩模的方法无效
| 申请号： | 01815284.8 | 申请日： | 2001-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN1571943A | 公开（公告）日： | 2005-01-26 |
| 发明（设计）人： | B·W·史密斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03B27/72 | 分类号： | G03B27/72;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 用来制造集成电路的微平版印刷装置例如投影步进机，其使光成形为以人字形照射系统将光掩模照射。该系统或者利用一个人字形孔眼掩模，或利用一些衍射光学元件，来使光源变成四个人字形(110b，120b，130b，140b)。这些人字形处在聚光镜圆形光瞳的各个角落内。这些人字形可能小至在各个角落处的方形极块，或大至一个环状方形环。人字形照射能为照射光掩模的普通X和Y方向的特征提供非常好的特性。 | ||
| 搜索关键词： | 用人 字形 照射 光掩模 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用来在半导体晶片的光敏表面上形成细间隔特征的平版印刷系统，它包括：一用来照射带有一定图形的光掩模的光源，所述图形将被转换到半导体晶片的光敏表面上；一设于光源和半导体晶片之间的孔眼掩模，它包括一带有不透明覆层和四个透明角落区域的半透明衬底；每个透明角落区域包括一人字形，人字形包含一个位于角落内的方形透明区及第一与第二支，该第一与第二支从所述方形透明区域沿向着相邻角落的方向延伸。
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