[发明专利]用于形成氧化钛膜的涂布剂、氧化钛膜的形成方法及该涂布剂的用途有效
| 申请号： | 01812523.9 | 申请日： | 2001-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN1441856A | 公开（公告）日： | 2003-09-10 |
| 发明（设计）人： | 春田泰彦;阿久井润;矶崎理 | 申请（专利权）人： | 关西涂料株式会社 |
| 主分类号： | C23C22/50 | 分类号： | C23C22/50;C23C22/83;C23C22/08 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王维玉,丁业平 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供：用于形成氧化钛膜的涂布剂，其含有(A)含钛的水性液，通过将选自可水解的钛化合物、可水解的钛化合物的低缩合物、氢氧化钛和氢氧化钛的低缩合物的至少一种与过氧化氢水溶液混合而得到，和(B)选自卤化钛、卤化钛盐、卤化锆、卤化锆盐、卤化硅和卤化硅盐的至少一种；用于形成氧化钛膜的方法，包括将涂布剂涂布到金属基材上并干燥所得的涂膜；以及金属基材的底涂剂及金属基材的磷酸盐底涂膜的后处理剂，其均为上述的涂布剂。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 氧化 涂布剂 方法 用途 | ||
【主权项】：
1.一种用于形成氧化钛膜的涂布剂，含有(A)含钛的水性液，其通过将选自可水解的钛化合物、可水解的钛化合物的低缩合物、氢氧化钛和氢氧化钛的低缩合物的至少一种与过氧化氢水溶液混合而得到，和(B)选自卤化钛、卤化钛盐、卤化锆、卤化锆盐、卤化硅和卤化硅盐的至少一种。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理，例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
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