[发明专利]用于向一种基片涂敷涂料的真空模块(及其变体)和模块系统有效
| 申请号： | 01812178.0 | 申请日： | 2001-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN1617947A | 公开（公告）日： | 2005-05-18 |
| 发明（设计）人： | 乌拉迪齐默尔·夏伊里帕乌;米卡拉伊·洛伊丘卡;阿里克桑德尔·哈赫洛夫;谢尔盖·马雷舍夫 | 申请（专利权）人： | 伊佐瓦克有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/22;C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 吴磊 |
| 地址： | 白俄罗*** | 国省代码： | 白俄罗斯;BY |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真空模块及其变体，用于在基片上真空沉积多层薄膜涂料。用于向基片例如CRT和平面显示器涂敷涂料的模块系统用来在具有不同尺寸的基片上沉积不同的薄膜。用于向基片涂敷涂料的真空模块包括：带有开口的真空腔，该开口用于布置基片；密封件和用于涂敷涂料的处理装置；阀门，该阀门安装在安装在平行于所述开口的平面内，以便将处理装置和开口分隔开。一处理装置传送机构平行于基片表面往复运动。一模块系统包括几个模块，这些模块具有一共同的抽真空系统和一共同的抽真空控制系统，一共同的用于自动装卸基片的处理装置控制系统。几个模块具有一个共同的操纵器。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 一种 基片涂敷 涂料 真空 模块 及其 变体 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于在一种基片上涂敷涂料的真空模块，该模块包括：真空腔，该真空腔上设有用于安放基片的开口；密封件和用于涂敷涂料的处理装置；阀门，该阀门布置在平行于该真空腔的所述开口所在平面的平面内并用于将该真空腔中的布置有处理装置的一部分空间和所述开口分隔开；以及处理装置传送机构，其特征在于，所述处理装置传送机构安装成其能够平行于基片表面往复运动。
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