[发明专利]可分散的、高结构沉淀二氧化硅作为牙膏组合物中的增稠剂或组织形成剂的应用有效
| 申请号： | 01810803.2 | 申请日： | 2001-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN1434700A | 公开（公告）日： | 2003-08-06 |
| 发明（设计）人： | Y·切沃里尔;A·得罗马德;P－Y·拉哈里;C·玛坎德利 | 申请（专利权）人： | 罗狄亚化学公司 |
| 主分类号： | A61K7/16 | 分类号： | A61K7/16;C01B33/193 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 郭建新 |
| 地址： | 法国布洛涅*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及高分散性沉淀二氧化硅作为增稠剂或组织形成剂在牙膏组合物中的应用，所述二氧化硅具有3.5～9的pH，DOP油吸收量高于200ml/g，CTAB比表面积是70～250m2/g，通过无超声波的激光衍射测定的中值粒径至少是20μm，以硫酸钠表示的残余阴离子比率小于5wt％。 | ||
| 搜索关键词： | 分散 结构 沉淀 二氧化硅 作为 牙膏 组合 中的 增稠剂 组织 形成 应用 | ||
【主权项】：
1.具有下列特性的沉淀二氧化硅作为牙膏组合物中的增稠剂或组织形成剂的应用：·3.5～9、优选4～9、而最优选5～8的pH·DOP油吸收量大于200ml/g，优选大于230ml/g，而最优选大于250ml/g·CTAB比表面积为70～250m2/g，而优选是100～200m2/g·用无超声波的激光衍射测定的中值粒径至少是20μm，优选至少是25μm·以硫酸钠表示的残余阴离子含量小于5wt％，而优选小于3wt％。
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