[发明专利]集成在微电子电路内的线圈和线圈系统及微电子电路有效
| 申请号： | 01806407.8 | 申请日： | 2001-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN1416579A | 公开（公告）日： | 2003-05-07 |
| 发明（设计）人： | J·伯索德;D·瑟瓦尔德;M·蒂布特 | 申请（专利权）人： | 因芬尼昂技术股份公司 |
| 主分类号： | H01F17/00 | 分类号： | H01F17/00;H01F27/36;H01L23/64 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王岳,张志醒 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及集成在微电子电路(10)内的线圈(20)和线圈系统，以及相应的微电子电路(10)。本发明的线圈(20)布置在芯片(11)的氧化物层(13)内，从而氧化物层(13)布置在基片(12)的基片表面(14)上。线圈(20)包括一个或多个匝(21)，匝(21)由至少两个导体轨迹(22，23)的段和链接这些轨迹(22)和/或轨迹段(23)的通路连接(40)构成，这些段分别在空间上不相连的金属化平面(24，25)上提供。为了制造高质量线圈(20)，尽量使线圈(20)的横截面(27)大，从而，标准的金属化，特别是使用铜的金属化可以用来制造线圈(20)。为达此目的，通路触点(40)由相互叠加的两个或多个通路元件(42)的叠层(41)形成。金属化平面的组成部分(43)可以位于通路元件(42)之间。 | ||
| 搜索关键词： | 集成 微电子 电路 线圈 系统 | ||
【主权项】：
1.一种集成在微电子电路(10)内的线圈，具有有一匝或多匝(21)，线圈匝(21)由在彼此分离的金属化平面(24，25)内形成的至少两个互连(22，23)的段和连接所述互连(22)和/或互连段(23)的通路触点(40)构成，其中，每个通路触点(40)则是由两个或多个通路元件(42)上下叠置形成的叠层(41)所构成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于因芬尼昂技术股份公司，未经因芬尼昂技术股份公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/01806407.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
