[发明专利]反射器、侧光型背照光设备和反射器基片无效
| 申请号： | 01805045.X | 申请日： | 2001-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN1401088A | 公开（公告）日： | 2003-03-05 |
| 发明（设计）人： | 吉田浩隆;福田伸;石川浩;田边胜 | 申请（专利权）人： | 三井化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;G02F1/1335;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 温大鹏,章社杲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供一种具有高亮度的侧光型背照光设备。所述设备还降低了不均匀亮度，和提供一种具有获得这种设备所需表面轮廓的反射器基片和具有高亮度及长耐用性的反射器，其中反射器基片在所述反射器中运行。通过在平面光源设备的光导向板和位于光导向板的一个主表面上的反射板的反射表面之间用突起等提供间隔，形成了防止变形的缓冲器。此外，按照顺序将基底层、主要包含银的金属层、以及透光氧化物层叠置在基片上以形成反射层。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 侧光型背照光 设备 器基片 | ||
【主权项】：
1.一种反射器，该反射器包括：基片；和形成于所述基片的一个主表面上的反射层，其特征在于，所述反射器的扩散率是1％到50％的范围内，所述扩散率被定义为漫反射率与全反射率之间的比率。
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