[发明专利]增加透明导电层电导率的方法无效
| 申请号： | 01804306.2 | 申请日： | 2001-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN1451102A | 公开（公告）日： | 2003-10-22 |
| 发明（设计）人： | I·D·弗伦奇;P·J·范德扎阿格 | 申请（专利权）人： | 皇家菲利浦电子有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1345;H01B1/08 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 栾本生,梁永 |
| 地址： | 荷兰艾恩*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种增加透明导电层电导率的方法，其中对透明层成型的光阻材料层具有带锥度的边缘并被部分腐蚀。部分腐蚀使被选择性地覆盖的下面的透明导电体的边缘区域暴露。本方法有一个对透明层单独成型的阶段，但使用对有锥度的光阻层的部分腐蚀，以便暴露透明层的小边缘区域，用导电层(可以是不透明的)覆盖。 | ||
| 搜索关键词： | 增加 透明 导电 电导率 方法 | ||
【主权项】：
1.一种增加透明导电层电导率的方法，包括：将光阻材料层沉积和成型为与透明导电层所希望的样式对应的形状；和利用光阻材料层将透明导电层成型，其中光阻材料层的边缘区域有锥度，该方法进一步包括以下步骤：将光阻材料层部分腐蚀，使得至少部分的边缘区域被完全除去，从而露出下面的透明导电层；利用金属层将透明导电层的暴露部分有选择地覆盖。
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