[发明专利]用于沉积铬合金的方法有效
| 申请号： | 01803623.6 | 申请日： | 2001-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN1395629A | 公开（公告）日： | 2003-02-05 |
| 发明（设计）人： | 赫尔穆特·赫斯特翰穆克 | 申请（专利权）人： | 恩通公司 |
| 主分类号： | C25D3/56 | 分类号： | C25D3/56;C25D3/10 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 丁香兰,丁业平 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种使用电解液在工件上，特别是金属材料工件上电镀沉积铬合金的方法，电解液至少含有铬酸、硫酸、一种构成同多阴离子的金属、一种短链脂肪族磺酸，它的盐类和/或它的卤素衍生物和氟化物。通过本发明可沉积生成合金镀层，该合金由于联合加入了短链脂肪族磺酸和氟化物而具有高含量的构成同多阴离子的金属，并且镀层是平滑的和有光泽的。这相对于现有技术的已知的合金镀层，特别是铬－钼－合金镀层是一个重要的优点。此外在电解液中有氟化物，这特别地导致了根据本发明所沉积的镀层具有相当高的硬度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 合金 方法 | ||
【主权项】：
1.一种使用电解液在工件上，特别是金属材料工件上电镀沉积铬合金的方法，其中所述的电解液至少含有：铬酸，硫酸，一种构成同多阴离子的金属，一种短链脂肪族磺酸、它的盐类和/或它的卤素衍生物和氟化物。
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