[实用新型]蒸发磁控真空镀膜机无效
| 申请号： | 01205957.9 | 申请日： | 2001-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN2476563Y | 公开（公告）日： | 2002-02-13 |
| 发明（设计）人： | 蔡东锋;梁凯基;宋兴文;冯其元;聂庭森;程辉 | 申请（专利权）人： | 广东真空设备厂股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 52602*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种真空镀膜机。它是在中间设置真空室,在真空室的左右两侧设置左右大门,而在其中配装蒸发装置和磁控装置,可在该双门上预留该两装置的接口,以备需要时换装。本实用新型设置单室双门的结构,可满足多膜系,多镀膜工艺的需要,使工作效率显著提高,适于各种金属和非金属材料的镀膜之用。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸发 真空镀膜 | ||
【主权项】：
1.一种蒸发磁控真空镀膜机，包括真空机组和真空室，其特征在于，所述的真空机组(1)与真空室(2)连接，所述的真室空(2)的左右两侧设有左大门(3)和右大门(6)，在左大门(3)和右大门(6)上均配装有蒸发装置(5)和磁控装置(4)。
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