[发明专利]腐蚀剂和具有用腐蚀剂蚀刻之铜线的阵列式基片有效
| 申请号： | 01144495.9 | 申请日： | 2001-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN1417383A | 公开（公告）日： | 2003-05-14 |
| 发明（设计）人： | 曺奎哲;蔡基成 | 申请（专利权）人： | LG.菲利浦LCD株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/16 | 分类号： | C23F1/16 |
| 代理公司： | 隆天国际专利商标代理有限公司 | 代理人： | 徐金国,陈红 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种腐蚀剂包括过氧化氢(H2O2)和包含有机酸、无机酸以及中性盐中至少一种物质的混合溶液。 | ||
| 搜索关键词： | 腐蚀剂 有用 蚀刻 铜线 阵列 式基片 | ||
【主权项】：
1.一种腐蚀剂，包括：过氧化氢(H2O2)；和包含有机酸、无机酸以及中性盐中至少一种物质的混合溶液。
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