[发明专利]洗涤液的供给系统有效
| 申请号： | 01137231.1 | 申请日： | 2001-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN1343002A | 公开（公告）日： | 2002-04-03 |
| 发明（设计）人： | 岛井太;越山淳;平康充 | 申请（专利权）人： | 东京広化工业株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/304 | 分类号： | H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨丽琴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 提供一种能够使洗涤液恰当而且不浪费的充分使用的供给系统。在第一洗涤位置使用的洗涤液通过送给管12送至使用过的液贮存罐2中。而且,使用过的液贮存罐2的使用过的洗涤液通过供给管21送至第二洗涤位置,供基板边缘部洗涤或杯内洗涤。此外,在第二洗涤位置使用的洗涤液则通过返回管30及分支配管32回收至使用过的液贮存罐3中。 | ||
| 搜索关键词： | 洗涤液 供给 系统 | ||
【主权项】：
1.洗涤液的供给系统，其特征在于，将未使用的洗涤液从新液贮存罐供给第一洗涤位置，将在该第一洗涤位置使用的洗涤液回收至使用过的液贮存罐中，将使用过的洗涤液从该使用过的液贮存罐供给第二洗涤位置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
