[发明专利]沉积制程的工作平台无效
| 申请号： | 01136241.3 | 申请日： | 2001-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN1412350A | 公开（公告）日： | 2003-04-23 |
| 发明（设计）人： | 林沧荣;黄昭元 | 申请（专利权）人： | 矽统科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李强 |
| 地址： | 台湾省新*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种进行Ti/TiN薄膜沉积制程的工作平台，包括有一物理气相沉积(physicalvapordeposiTion，PVD)真空反应室；至少一金属有机化学气相沉积(metal－organicchemicalvapordeposiTion，MOCVD)真空反应室；以及一无线电波波频(radiofrequency，RF)处理反应室；其中RF处理反应室可以取代MOCVD真空反应室的等离子处理制程，以增加工作平台的产量。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 工作 平台 | ||
【主权项】：
1.一种沉积制程的工作平台，其特征是：包括有：一物理气相沉积(physicalvapordeposiTion，PVD)真空反应室；至少一金属有机化学气相沉积(metal-organicchemicalvapordeposiTion，MOCVD)真空反应室；一无线电波波频(radiofrequency，RF)处理反应室。
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