[发明专利]多阶NROM的存储单元及其操作方法有效
申请号: | 01134625.6 | 申请日: | 2001-11-07 |
公开(公告)号: | CN1417862A | 公开(公告)日: | 2003-05-14 |
发明(设计)人: | 黄俊仁;周铭宏 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/105 | 分类号: | H01L27/105 |
代理公司: | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人: | 王学强 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种多阶(Multi-Level)NROM的存储单元及其操作方法,其可形成一氮化物层,此氮化物层可以陷入数个电荷以形成数个电荷陷入区域,这些电荷陷入区域可以储存这些电荷以做为存储用的位,多阶NROM的存储单元包括一第一位、一第二位。其中,在第二位储存这些电荷以形成一电位障,此电位障影响所读到的第一位的一临限电压位阶的大小,通过改变电位障的大小来设定临限电压位阶的大小,只须以固定的偏压,单边读取第一位的临限电压位阶的大小,便可定义多阶NROM的存储单元的不同的存储状态。 | ||
搜索关键词: | 多阶 nrom 存储 单元 及其 操作方法 | ||
【主权项】:
1.一种多阶NROM的存储单元,其特征在于:其可形成一氮化物层,该氮化物层可以陷入数个电荷以形成数个电荷陷入区域,该些电荷陷入区域可以储存该些电荷以做为存储用的位,多阶NROM的存储单元包括:一第一位;一第二位;其中,在该第二位储存该些电荷以形成一电位障,该电位障影响所读到的该第一位的一临限电流位阶的大小,通过改变该电位障的大小来设定该临限电流位阶的大小,并以该临限电流位阶的大小定义多阶NROM的存储单元的不同的存储状态。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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