[发明专利]二氧化钛光催化空气净化薄膜及其制备方法无效
| 申请号： | 01134335.4 | 申请日： | 2001-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN1141178C | 公开（公告）日： | 2004-03-10 |
| 发明（设计）人： | 庄大明;方晓东;张弓;窦伟;侯亚奇;肖昱;赵明 | 申请（专利权）人： | 清华大学;北京市中科凯澜科技发展有限公司 |
| 主分类号： | B01J21/06 | 分类号： | B01J21/06;B01J37/02;B01J37/34;C23C14/08;C23C14/34 |
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| 地址： | 100084北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种二氧化钛光催化空气净化薄膜及其制备方法，其特征是利用磁控溅射在玻璃、金属、陶瓷等载体上形成二氧化钛光催化空气净化薄膜，使用纯金属钛靶材和氧气的直接合成，并利用弧抑制电源防止纯金属钛靶材的中毒。其中二氧化钛薄膜形成的晶粒可沿载体的垂直方向或水平方向成长，晶粒粒径为10～100纳米，薄膜的厚度为20～100纳米。二氧化钛薄膜是由单一锐钛矿相组成或单一金红石相组成或是由锐钛矿相和金红石相的混合相组成，其中锐钛矿占50％～98％，金红石相占2％～50％。这种薄膜可以有效的对有害气体如甲醛、苯酚等产生降解作用。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 光催化 空气净化 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种二氧化钛光催化空气净化薄膜的制备方法，该方法依次包括如下步骤：(1)首先将用于制备薄膜的载体进行清洁处理；(2)将上述清洁处理好的载体置于真空压力为小于等于5.0×10-3Pa、发置纯金属钛靶的真空设备中；(3)利用中频交流磁控溅射方法溅射纯钛靶，所采用的工作气体压力为0.5Pa～2.0Pa，工作电压为200v～600v，电流密度为2.0mA/cm2～10mA/cm2，氧气分压为0.08Pa～0.8Pa，纯金属钛靶材和氧气在磁控溅射的条件下在载体上直接生成二氧化钛光催化薄膜。
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