[发明专利]等离子体显示屏的设计制造方法有效
| 申请号： | 01134008.8 | 申请日： | 2001-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN1150580C | 公开（公告）日： | 2004-05-19 |
| 发明（设计）人： | 樊卫华;王祖明;王绪丰;陈秀敏 | 申请（专利权）人： | 信息产业部电子第五十五研究所 |
| 主分类号： | H01J9/00 | 分类号： | H01J9/00;H01J17/49;G06F7/20 |
| 代理公司： | 南京苏科专利代理有限责任公司 | 代理人： | 徐冬涛 |
| 地址： | 210016江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种低成本高套准精度的等离子体显示屏的设计制造方法，其特征在于先作出一套各图层之间套位准确的掩模，用该套掩模确定经图形制作工艺过程后(包含热处理过程)各图形尺寸和其掩模图形尺寸之间的偏差，即为预校正量；利用这些预校正量校正掩模参数，重新制作掩模，使得制作出的掩模图形和前面已制作出的图形能精密套准；校正掩模的方法有将预校正量平均分配到每个显示单元的均匀校正法以及在不同组显示单元间用小份化预校正量增减实现掩模总体尺寸校正的非均匀预校正法。采用本方法不仅降低了显示屏的制造成本而且提高了显示屏的性能。本发明也可用于其它具有玻璃基板热处理工艺的平板显示屏的制造。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 显示屏 设计 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体显示屏的设计制造方法，先作出一套各图层之间套位准确的掩模，用该套掩模确定经图形制作工艺过程后各图形尺寸和其掩模图形尺寸之间的偏差，即为预校正量；利用这些预校正量，重新制作掩模，使得制作出的掩模图形和前面已制作出的图形能精密套准，其特征在于：校正掩模的方法为将预校正量分解成光绘机可分辨的若干小份，然后把这些小份随机地或以一定的规则分配到若干显示单元，使分配到小份的显示单元的几何尺寸增大或减少一小份，从而使所有显示单元的总尺寸发生了预校正量大小变化的非均匀预校正法。
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