[发明专利]具有优良防积垢特性的反渗透分离膜及其制造方法无效

专利信息
申请号: 01133933.0 申请日: 2001-08-16
公开(公告)号: CN1401417A 公开(公告)日: 2003-03-12
发明(设计)人: 郭承烨;金圣镐;金淳植 申请(专利权)人: 世韩工业株式会社
主分类号: B01D67/00 分类号: B01D67/00;B01D61/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 范明娥
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 为了从根本上防止分离膜在使用过程中产生的积垢现象,采取将具有光催化剂特性的纳米级TiO2粒子固定于分离膜上,而提供一种膜本身具有新的优良防积垢特性的反渗透分离膜。该分离膜包括以下步骤在酸性条件的水溶液中水解钛化合物,生成纳米级TiO2粒子;使生成的纳米级TiO2粒子分散于pH1-6或pH9-13的水溶液中,形成稳定的TiO2分散液;用众所周知的方法将反渗透分离膜浸渍于上述的分散液,使TiO2粒子结合于反渗透分离膜上。
搜索关键词: 具有 优良 积垢 特性 反渗透 分离 及其 制造 方法
【主权项】:
1.制造具有优良防积垢特性的反渗透分离膜的方法,它包括以下步骤:在酸性条件的水溶液中水解钛化合物,生成纳米级TiO2粒子的步骤;使生成的纳米级TiO2粒子分散于pH1-6酸性溶液或pH9-13的碱性溶液,形成稳定的TiO2分散液的步骤;用众所周知的方法将反渗透分离膜浸渍于上述分散液中,使TiO2粒子结合在反渗透分离膜上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于世韩工业株式会社,未经世韩工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/01133933.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top