[发明专利]具有优良防积垢特性的反渗透分离膜及其制造方法无效
申请号: | 01133933.0 | 申请日: | 2001-08-16 |
公开(公告)号: | CN1401417A | 公开(公告)日: | 2003-03-12 |
发明(设计)人: | 郭承烨;金圣镐;金淳植 | 申请(专利权)人: | 世韩工业株式会社 |
主分类号: | B01D67/00 | 分类号: | B01D67/00;B01D61/02 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 范明娥 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 为了从根本上防止分离膜在使用过程中产生的积垢现象,采取将具有光催化剂特性的纳米级TiO2粒子固定于分离膜上,而提供一种膜本身具有新的优良防积垢特性的反渗透分离膜。该分离膜包括以下步骤在酸性条件的水溶液中水解钛化合物,生成纳米级TiO2粒子;使生成的纳米级TiO2粒子分散于pH1-6或pH9-13的水溶液中,形成稳定的TiO2分散液;用众所周知的方法将反渗透分离膜浸渍于上述的分散液,使TiO2粒子结合于反渗透分离膜上。 | ||
搜索关键词: | 具有 优良 积垢 特性 反渗透 分离 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.制造具有优良防积垢特性的反渗透分离膜的方法,它包括以下步骤:在酸性条件的水溶液中水解钛化合物,生成纳米级TiO2粒子的步骤;使生成的纳米级TiO2粒子分散于pH1-6酸性溶液或pH9-13的碱性溶液,形成稳定的TiO2分散液的步骤;用众所周知的方法将反渗透分离膜浸渍于上述分散液中,使TiO2粒子结合在反渗透分离膜上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于世韩工业株式会社,未经世韩工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/01133933.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。