[发明专利]电光装置、电子装置、电光装置用基板和电光装置用基板的制造方法以及遮光膜有效
| 申请号： | 01133122.4 | 申请日： | 2001-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN1162747C | 公开（公告）日： | 2004-08-18 |
| 发明（设计）人： | 河田英德 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/136 | 分类号： | G02F1/136 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯;叶恺东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题是提供作成遮光膜111的、具有优良的遮光性能的遮光膜，其中，上述遮光膜111具有阻挡层B1和金属层M1，上述阻挡层B1由高熔点金属的氮化物、硅化物、钨化物、钨、硅中的1种构成，上述金属层M1由如果变成氧化物则可看到遮光性的恶化的金属单质或金属化合物中的某一方构成。 | ||
| 搜索关键词： | 电光 装置 电子 用基板 制造 方法 以及 遮光 | ||
【主权项】：
1.一种电光装置，其特征在于：具有：夹持电光物质的一对基板；在一片基板上设置的开关元件；以及在与上述开关元件相向的位置上设置的遮光膜，上述遮光膜具有：为高熔点的金属单质或金属化合物的金属层；以及由在上述金属层的至少一个面上被层叠的无氧系列的高熔点的金属或金属化合物构成的阻挡层；上述遮光膜被配置在上述电光物质一侧的上述开关元件上。
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