[发明专利]一种防磁盘润滑剂分解的磁头薄膜的制备方法

摘要

本发明属于计算机硬盘磁头制造领域。其制备方法为将X-1P配制成浓度为100-300ppm的溶液，将磁头浸入制膜溶液，在制膜溶液中浸泡5-10分钟后，然后将磁头取出放入100-120℃恒温装置，保持30-60分钟，使磁头表面的溶剂挥发而X-1P吸附在磁头表面，从而在磁头上得到X-1P薄膜。该薄膜能够大大减轻磁头材料对磁盘润滑剂的催化分解，且X-1P分子能增强润滑分子在磁盘表面的迁移流动能力，从而使磨损的磁盘润滑膜得到自动修复。本发明提高了磁盘润滑膜的化学稳定性，增强了磁头/磁盘之间的润滑稳定，使磁头读写元件和磁盘磁介质的磨损减少，将大大提高硬盘的存储稳定性和使用寿命。

主权项

1、一种防磁盘润滑剂分解的磁头薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将X-1P按照一定的浓度溶入全氟己烷溶剂得到制膜溶液，所说的制膜溶液浓度在100-300ppm；(2)将洁净磁头稳定垂直下降，直到磁头完全浸入制膜溶液；(3)磁头在制膜溶液中浸泡5-10分钟后，将磁头取出，磁头离开制膜溶液的速度在3mm/s-8mm/s，并保持速度平稳；(4)将覆盖有制膜溶液的磁头放入100-120℃的恒温装置中，保持30-50分钟，使磁头表面的溶剂彻底挥发，最后得到磁头表面覆盖有一层厚度在纳米量级的X-1P分子薄膜。