[发明专利]金刚石涂层电极处理难降解废水的工艺无效
| 申请号： | 01126814.X | 申请日： | 2001-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN1140463C | 公开（公告）日： | 2004-03-03 |
| 发明（设计）人： | 贾金平;王亚林;何贤昶;张志明;沈荷生;沈璐 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | C02F1/461 | 分类号： | C02F1/461;C25B11/04;//;101∶30) |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 | 代理人： | 毛翠莹 |
| 地址： | 20003*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种金刚石涂层电极处理难降解废水的工艺，采用性能优越、电位窗口较宽的CVD掺硼金刚石涂层电极作为电解处理废水的阳极或阴极，电极相互平行并垂直置于电解槽中，电解槽中铺上固体催化剂及溶液中添加电解质，以提高电流效率和导电性。本发明选用以抛光硅片为衬底的普通掺硼金刚石涂层电极或以金属钨、碳化硅为衬底的纳米掺硼金刚石涂层电极，利用其优越的性能，满足电化学法处理废水的需求，具有能耗低、电极寿命长、应用范围广的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 金刚石 涂层 电极 处理 降解 废水 工艺 | ||
【主权项】：
1、一种金刚石涂层电极处理难降解废水的工艺，其特征在于采用电位窗口在3.54V～3.96V之间、化学气相淀积法掺硼工艺制成的金刚石涂层电极作为电解处理废水的阳极或阴极，电解槽水平放置，金刚石涂层电极与另一工作电极相互平行，两电极垂直置于电解槽中，电解槽中铺上2-5cm厚的颗粒活性碳作催化剂，溶液中添加1.0g/L电解质，外加直流电的电流密度控制在0.006～8A/cm2，处理时间为2小时，化学气相淀积法掺硼工艺制成的金刚石涂层电极选用以抛光硅片为衬底的普通掺硼金刚石涂层电极或以金属钨、碳化硅为衬底的纳米掺硼金刚石涂层电极。
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