[发明专利]用于液晶装置的离子枪淀积及排列无效
| 申请号： | 01121869.X | 申请日： | 2001-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN1162741C | 公开（公告）日： | 2004-08-18 |
| 发明（设计）人： | A·卡尔勒加里;P·肖德哈里;J·P·多勒;E·A·加里干;加藤喜峰;J·A·拉塞伊;S·C·A·利恩;陆珉华;中野宏毅;小田原修一 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 陈霁;张志醒 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明包括在衬底上形成已对准膜的方法。所说膜可以利用包括以下步骤的方法，在一个步骤内淀积和排列：以预定入射角，用离子束轰击衬底，以便同时(a)在所说衬底上淀积所说膜，(b)在至少一个预定排列方向上，排列所说膜的所说原子结构。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 液晶 装置 离子 枪淀积 排列 | ||
【主权项】：
1.一种在衬底上形成膜的方法，其中所说膜呈现已对准原子结构，所说方法包括以下步骤：用来自至少一种离子束源的至少一种离子束，以预定入射角，轰击所说衬底，以便同时(a)在所说衬底上淀积所说膜，(b)在至少一个预定排列方向上，排列所说膜的所说原子结构；其中所说离子束包括撞击物质，其中所说撞击物质的能量保持低于在所说衬底的表面上淀积所说膜需要的能量。
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