[发明专利]荫罩的洗净方法和洗净装置无效
| 申请号： | 01116680.0 | 申请日： | 2001-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN1147901C | 公开（公告）日： | 2004-04-28 |
| 发明（设计）人： | 泽田义昭;平山和成 | 申请（专利权）人： | 东芝株式会社 |
| 主分类号： | H01J9/14 | 分类号： | H01J9/14;B08B3/12 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 孙敬国 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明揭示一种荫罩的洗净方法和洗净装置，该洗净方法包含下述步骤：将具有形成电子束穿通孔的荫罩主体和固定在荫罩主体边缘部分的荫罩框架的荫罩，配置在超声波传输媒体内，从超声波振荡器向着所述荫罩发射振荡的超声波，利用超声波反射体使超声波振荡器振荡的超声波的至少一部分，向着所述荫罩的边缘部分反射，其中，所述反射超声波的工序，包含利用所述超声波反射体使通过所述荫罩的电子束穿通孔的超声波反射的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 洗净 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种荫罩的洗净方法，所述洗净方法包括下述工序：将具有形成电子束穿通孔的荫罩主体和固定在荫罩主体边缘部分的荫罩框架的荫罩，配置在超声波传输媒体内，从超声波振荡器向着所述荫罩发射振荡的超声波，利用超声波反射体使通过所述荫罩的电子束穿通孔的超声波进行反射，其特征在于，在所述反射超声波的工序中，利用所述超声波反射体使超声波振荡器振荡的超声波的至少一部分，向着所述荫罩的边缘部分反射。
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