[发明专利]抛光浆料无效
| 申请号： | 01111345.6 | 申请日： | 2001-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN1333317A | 公开（公告）日： | 2002-01-30 |
| 发明（设计）人： | L·刘;D·克沃克 | 申请（专利权）人： | 普莱克斯·S·T·技术有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴大建,杨九昌 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的抛光浆料包括平均颗粒直径小于约5μm的抛光颗粒。该浆料还包括至少约0.5总重量百分数的氧化剂,它选自下组中的至少一种HNO3,Ni(NO3)2,Al(NO3)3,Mg(NO3)2,Zn(NO3)2和NH4NO3。少且有效量的助氧化剂促进对基片的磨削,其中助氧化剂选自下组过溴酸盐、高氯酸盐、高碘酸盐、过硫酸盐、高锰酸盐、硝酸铁、含铈盐、过苯甲酸类、硝酸盐化合物、过硼酸盐化合物、次氯酸盐化合物、亚氯酸盐化合物和氯化物化合物;以及平衡水形成含水浆料。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 浆料 | ||
【主权项】：
1.一种抛光浆料，它含有平均颗粒直径小于约5μm的抛光颗粒；至少约0.5总重量百分比的氧化剂；少且有效量的至少一种助氧化剂和平衡水，其中氧化剂选自下组中的至少一种：HNO3，Ni(NO3)2，Al(NO3)3，Mg(NO3)2，Zn(NO3)2和NH4NO3；助氧化剂选自下组：过溴酸盐、高氯酸盐、高碘酸盐、过硫酸盐、高锰酸盐、硝酸铁、含铈盐、过苯甲酸类、硝酸盐化合物、过硼酸盐化合物、次氯酸盐化合物、亚氯酸盐化合物和氯化物化合物。
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